CNW UPLC/LC-MS色谱溶剂 

流动相中的杂质是UPLC/LC-MS中出现杂峰和基线不稳定的主要原因。与其他污染物不同的是，溶剂中的污染物并不会随着时间而消失，潜在LC-MS污染物包括：无机及金属离子、分解产物、溶剂生产中附带化合物、微生物及代谢物、为过滤掉的颗粒物、沉淀物以及来自空气或者包装上的吸附物。无论是何种污染，LC-MS流动相中的杂质可能会：（1）聚集在柱头，洗脱下来会有明显的峰形或者引起基线的上升；（2）导致总体的基线上升，使分析灵敏度下降；（3）阻塞或者损坏仪器的敏感部件；（4）流动相内的金属含量高（尤其是钾和钠元素），可以和目标分析物形成大规模加合物，影响可靠的识别和定量。

CNW UPLC/LC-MS溶剂具有以下优点：

● 极低的无机及金属离子含量，有利于高灵敏度的光谱分析； ● 无颗粒物，可确保系统的完整性； ● 低梯度基线，甚至与最优化协议一致； ● 显著降低了邻苯二甲酸酯和聚乙二醇等的污染；

● 通过显著降低颗粒物含量、尽可能减少形成金属配合物以及减少邻苯二甲酸酯和聚乙二醇有机物杂质存在导致的假峰，从而延长UPLC/LC-MS色谱柱的使用寿命。 ● 可同时适用于UPLC/LC-MS色谱分析。